Dùng Trong Chân Không

Dùng trong chân không hay vacuum compatible parts là nhóm danh mục cung cấp các loại phụ kiện cơ khí chuyên dụng cho hệ thống chân không vacuum system trong ngành bán dẫn semiconductor, công nghệ nano nanotechnology, công nghệ thực phẩm chế biến chân không và thiết bị khoa học, đáp ứng yêu cầu sạch sạch tinh khiết và không có outgassing trong điều kiện chân không cao. Danh mục cung cấp bulong vít vacuum SUS304 SUS316 đặc biệt không có lỗ rỗng, gioăng O-ring Viton FKM Buna-N chuyên dụng cho UHV, mỡ vacuum Apiezon Krytox cho bôi trơn không bay hơi, ống dẫn vacuum stainless steel và phụ kiện kết nối CF KF ISO cho UHV. Vật liệu chế tạo gồm thép không gỉ SUS304 SUS316L cao thấp carbon cho UHV ultra high vacuum, thép không gỉ SUS304 đánh bóng điện hóa electropolished EP cho HV high vacuum, đồng OFHC oxygen free high conductivity copper cho điện cực vacuum và gioăng Viton FKM Krytox cho chân không. Yêu cầu kỹ thuật khắt khe gồm không có lỗ rỗng pore trapped gas có thể outgas, độ nhám bề mặt Ra dưới 0.4 µm sau electropolish, không có chất phụ gia hữu cơ bay hơi và đạt mức outgassing tổng dưới 10 mũ trừ 9 mbar.L trên giây. Sản phẩm tuân thủ tiêu chuẩn ASTM E595 cho outgassing test, ISO 14644 cho cleanroom, SEMI F57 cho semiconductor, ASME BPE cho dược phẩm cùng quy chuẩn của các hãng MDC Vacuum, Kurt J Lesker, Pfeiffer Vacuum, Edwards Vacuum, Leybold đảm bảo cấp chất lượng. Cấp chân không hỗ trợ gồm low vacuum 1 đến 10 mũ trừ 3 mbar, medium vacuum 10 mũ trừ 3 đến 10 mũ trừ 7 mbar, high vacuum HV và ultra high vacuum UHV đến 10 mũ trừ 12 mbar. Khác biệt với phụ kiện thường là vật liệu cao cấp đặc biệt và xử lý bề mặt electropolish không bị outgas trong chân không. Ưu điểm so với phụ kiện thường là không gây ô nhiễm chân không bằng outgas, đạt cấp UHV và phù hợp ngành bán dẫn nano khoa học. Ứng dụng cao cấp trong thiết bị bán dẫn lithography, thiết bị nano khoa học, máy gia tốc hạt accelerator, thiết bị thực phẩm đóng gói chân không và buồng vacuum thí nghiệm khoa học. Cấp chân không hỗ trợ từ low vacuum đến UHV.